編號	P099055
單位系所	資訊工程學系
技術名稱	深次微米級之圖案轉移的方法
簡介	本發明提供一種深次微米級之圖案轉移的方法，包含以下步驟：(a)於一底材上形成一液態光阻層；(b)移除該液態光阻層內的溶劑以形成一固態光阻層；(c)對該固態光阻層施予曝光；(d)將該固態光阻層埋於一顯影劑以使其轉換成一具有預定圖案之光阻層；及(e) 對該具有預定圖案之光阻層施予快速熱製程以使其表面因快速地達玻璃轉化溫度而軟化，並藉由重力以使得表面軟化的光阻得以因橫向向下地拉平而達平坦化。
教師名稱	陳柏頴
智慧財產權型式	patent pending
專利証號
可應用範圍/領域	本發明是有關於一種圖案轉移的方法，特別是指一種深次微米級之圖案轉移的方法。
特色/優點
推廣及運用價值
參考文件